台积电技术大佬罗唯仁携2nm机密投奔Intel：帮助不大 影响不小

11月20日消息，台积电任职长达21年的资深高管罗唯仁在退休后重返老东家Intel，引发业界广泛关注。更引人关注的是，有报道称他在离职前利用高层管理职权，要求下属进行多场技术简报，并影印了大量涉及2纳米、A16、A14等先进制程的机密资料。

罗唯仁自2004年加入台积电，直至今年7月退休，期间主导多项关键技术突破，包括推动EUV光刻导入与“夜鹰计划”，为台积电先进制程发展立下汗马功劳。尽管已届75岁高龄，但他所掌握的技术积累和管理经验仍极具价值。因此，许多人担忧此次跳槽将导致台积电核心技术外泄，削弱其在全球半导体制造领域的领先优势。

然而，美国科技媒体Tom’s Hardware对此持不同看法，指出即便罗唯仁携带有台积电的技术知识，也难以直接应用于Intel的生产体系。目前Intel已推进至18A制程节点，在工艺架构、图案化技术及背面供电设计等方面与台积电的2nm存在显著差异，技术路径并不兼容，因此其技术细节对Intel的实际助益有限。

真正可能带来的影响，在于罗唯仁或将引入台积电高效的研发管理模式与“One-Team”协作文化，帮助Intel提升从研发到量产的整合效率。这种管理层面的经验移植，或许比具体技术更具战略意义。

尽管技术转移的可能性较低，但此事件仍震动行业。随着关键人才流动伴随潜在信息泄露风险，半导体企业未来可能加强对高管离职审查，并制定更为严格的人才合规机制，从而推动整个行业在人才竞争与知识产权保护之间寻求新的平衡。