本站 11 月 15 日消息，《日本经济新闻》当地时间今日凌晨报道称，日本先进半导体代工企业 rapidus 购入的第一台 asml euv 光刻机将于 2024 年 12 月中旬抵达北海道新千岁机场，这也将成为日本全国首台euv 光刻设备。
根据 Rapidus 高管以往表态，该光刻机是较早期的 0.33 NA 型号，而非目前全球总量不足 10 台的 0.55 NA（High NA）款。
据悉本次整个空运任务将分多架次完成，新千岁机场还为这台对精度要求极高、不耐振动...
本站 12 月 19 日消息，日本先进逻辑半导体制造商 rapidus 宣布，其购入的首台 asml twinscan nxe:3800e 光刻机已于当地时间昨日在其北海道千岁市 iim-1 晶圆厂完成交付并启动安装。这也是日本境内首次引入量产用 euv 光刻设备。
Rapidus 首席执行官、日本政府代表、北海道及千岁市地方政府代表、ASML 高管、荷兰驻日本大使等相关人士出席了在北海道新千岁机场举行的纪念仪式。
NXE:3800E 是 ASML EXE 系列...
6 月 27 日消息，asml 技术高级副总裁 jos benschop 在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向 5nm 分辨率的 hyper na 光刻机研发工作。
目前使用的 TWINSCAN EXE:5000 光刻系统搭载 High NA（0.55NA）光学系统，分辨率为 8nm。更高的分辨率将有助于先进制程厂商减少曝光步骤，并提升光刻图案的精度。
Jos Benschop 表示，ASML 尚未为 Hyper NA 光刻设备...
如今，能驾驭先进半导体工艺的企业屈指可数，尤其是在5nm及以下节点，EUV光刻机已成为不可或缺的关键设备。在这一领域，荷兰ASML已稳坐唯一供应商的宝座。
据荷兰财经记者Marc Hijink在其新书《Focus：The ASML Way》中披露，ASML的成功并非偶然，其背后的核心驱动力正是与台积电、三星、英特尔等全球芯片巨头的深度合作。他特别指出：“ASML绝不会研发一台没有客户需要的机器。”
为了加速技术突破，ASML曾获得这三家行业领军企业的直接投资。这笔...
9 月 28 日消息，根据 tom's hardware 的报道，俄罗斯科学院微结构物理研究所（由德米特里・库兹涅佐夫公开）发布了一项关于国产极紫外（euv）光刻设备的长期发展规划。该设备工作波长为 11.2 纳米，是对该机构在去年 12 月所披露技术信息的进一步扩展和深化。新项目计划从 2026 年启动，初期聚焦于 40 纳米制造工艺，并逐步推进至 2037 年，目标实现亚 10 纳米（sub-10nm）制程能力。相较此前的一些设想，这份路线图显得更具现实操作性，但其实际可...
10 月 9 日消息，光刻机龙头企业 asml 宣布任命原应用产品领域执行副总裁 marco pieters 担任公司执行副总裁兼首席技术官，他将直接向总裁兼首席执行官 christophe fouquet 汇报。
同时，ASML 监事会透露，计划在明年 4 月 22 日举行的年度股东大会上提名 Marco Pieters 为管理委员会成员；同次大会还将审议对首席财务官 Roger Dassen 和首席运营官 Frédéric Schneider-Maunoury...
11月7日，在第八届进博会期间，荷兰光刻巨头asml首次在国内展出了两款新型光刻设备——twinscan xt:260与twinscan nxt:870b。
需要特别指出的是，这两款设备并非用于传统意义上的芯片制造光刻环节，而是专门面向3D封装等先进封装技术领域的产品。
熟悉国内半导体产业链发展的业内人士已经意识到：当前的市场格局正在发生变化——不是中国厂商去抢占ASML在DUV/EUV光刻机领域的份额，而是ASML主动进入并挑战国内企业在封装光刻设备市场的地位。...
11月16日传来消息，荷兰政府此前突然强制接管了中国闻泰科技旗下的全资子公司安世半导体，此举随即在全球半导体行业引发巨大震动。
针对这一系列事件，另一家荷兰科技巨头ASML也向外界作出回应，明确表示公司目前的运营并未受到安世半导体风波的影响。
在刚刚结束的进博会期间，ASML还在中国展出了两款最新的光刻设备——TWINSCAN XT:260与TWINSCAN NXT:870B。其中，TWINSCAN XT:260不仅可用于传统光刻制造，还能支持先进封装工艺。
综...
11月24日，针对近日有新书声称ASML曾提议协助美国政府监视中国客户一事，光刻机巨头ASML正式发布声明予以澄清。
该说法源自一本荷兰语出版的新书《世界上最重要的机器》，书中提到，ASML首席执行官Peter Wennink在面临对华销售DUV光刻机的争议时，曾建议公司可在继续向中国客户提供设备的同时，由派驻工程师反馈相关中国企业的内部动态。
对此，ASML在声明中明确表示：公司对该书内容不予认可。 在书籍出版之前，ASML已通过正式书面渠道告知作者，书中包含多...
12月10日最新消息，asml不仅被禁止向中国出口尖端的euv光刻机，就连技术相对成熟的duv光刻机，如今也面临日益严苛的出口限制与审查。
据荷兰国家广播公司（NOS）披露，尽管ASML多次强调其销往中国芯片企业的设备均属“成熟制程技术”，不具备制造最先进芯片的能力，但部分国际分析机构仍持续表达忧虑，担心此类设备可能间接支撑中国在高端军事装备领域的技术突破与量产能力。
报道称，中国电子科技集团有限公司（CETC）旗下相关单位近期完成了对ASML DUV光刻机的采购。...